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Titre original :
Atomic Layer Processing: Semiconductor Dry Etching Technology
Contenu du livre :
Ce guide pratique présente des sujets fondamentaux et avancés en matière de gravure.
Traitement de la couche atomique : Semiconductor Dry Etching Technology constitue une ressource pratique et unique pour comprendre les technologies de gravure et leurs applications. L'éminent scientifique, cadre et auteur offre aux lecteurs des informations approfondies sur les différentes technologies de gravure utilisées dans l'industrie des semi-conducteurs, notamment la gravure thermique, la gravure isotrope par couche atomique, la gravure radicale, la gravure assistée par ions et la gravure ionique réactive.
L'ouvrage commence par un bref historique de la technologie de gravure et du rôle qu'elle a joué dans la révolution des technologies de l'information, ainsi que par un recueil de la terminologie couramment utilisée dans l'industrie. Il aborde ensuite différentes techniques de gravure, avant de conclure par des discussions sur les principes fondamentaux de la conception des réacteurs de gravure et sur les nouveaux sujets émergents dans le domaine, tels que le rôle joué par l'intelligence artificielle dans la technologie.
Atomic Layer Processing comprend également une grande variété d'autres sujets, qui contribuent tous à l'objectif de l'auteur de fournir au lecteur une compréhension au niveau atomique de la technologie de gravure à sec, suffisante pour développer des solutions spécifiques pour les technologies de semi-conducteurs existantes et émergentes. Les lecteurs bénéficieront de :
⬤ Une discussion complète sur les principes fondamentaux de l'élimination des atomes de diverses surfaces.
⬤ Un examen des technologies de gravure émergentes, y compris la gravure assistée par laser et faisceau d'électrons.
⬤ Un traitement du contrôle des processus dans la technologie de gravure et le rôle joué par l'intelligence artificielle.
⬤ Une analyse d'une grande variété de méthodes de gravure, y compris la gravure thermique ou à la vapeur, la gravure isotrope de couches atomiques, la gravure radicale, la gravure directionnelle de couches atomiques, et plus encore.
Parfait pour les spécialistes des matériaux, les physiciens des semi-conducteurs et les chimistes des surfaces, Atomic Layer Processing trouvera également sa place dans les bibliothèques des ingénieurs scientifiques de l'industrie et des universités, ainsi que de toute personne impliquée dans la fabrication de la technologie des semi-conducteurs. L'implication étroite de l'auteur dans la recherche et le développement des entreprises et dans la recherche universitaire permet à l'ouvrage d'offrir une approche multidimensionnelle unique du sujet.
Autres informations sur le livre :
| ISBN : | 9783527346684 |
| Auteur : | |
| Éditeur : | |
| Reliure : | Broché |
| Année de publication : | 2021 |
| Nombre de pages : | 304 |
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