Titre original :
Advances in Chemical Vapor Deposition
Contenu du livre :
La recherche d'une méthodologie de production évolutive pour les matériaux et son passage du laboratoire à l'industrie est bénéfique pour les nouvelles applications de la vie quotidienne.
De ce point de vue, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) offre un compromis entre l'efficacité, la contrôlabilité, l'accordabilité et une excellente répétabilité d'un cycle à l'autre dans la couverture des monocouches sur les substrats. Le dépôt en phase vapeur répond donc à toutes les exigences de l'industrialisation dans pratiquement tous les domaines, y compris les revêtements polymères, les métaux, les systèmes de filtration de l'eau, les cellules solaires, etc.
Le numéro spécial "Advances in Chemical Vapor Deposition" est consacré à la présentation des dernières découvertes expérimentales et à l'identification des paramètres de croissance et des caractéristiques des pérovskites, du TiO2, de l'Al2O3, du VO2 et du V2O5 avec les qualités souhaitées pour des dispositifs potentiellement utiles.
Autres informations sur le livre :
| ISBN : | 9783039439232 |
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| Reliure : | Relié |
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