Avis des lecteurs
Résumé:Les critiques de ce livre soulignent son excellence en tant que ressource pour l'étude de la science du plasma et ses mises à jour approfondies sur les principes du traitement par plasma. L'ouvrage est bien écrit et considéré comme l'un des plus pratiques et des plus complets dans ce domaine.
Avantages:Bien écrit, contenu approfondi et mis à jour, très instructif pour la physique et l'ingénierie des plasmas, facile à comprendre, ressource complète, indispensable pour les étudiants et les professionnels de la science des plasmas.
Inconvénients:Aucun inconvénient particulier n'a été mentionné dans les commentaires.
(basé sur 5 avis de lecteurs)
Titre original :
Principles of Plasma Discharges and Materials Processing
Contenu du livre :
Une mise à jour complète du classique de l'industrie sur les principes du traitement par plasma.
La première édition de Principles of Plasma Discharges and Materials Processing, publiée il y a plus de dix ans, a été saluée pour son traitement complet de la physique des plasmas et du traitement industriel des plasmas, devenant rapidement la principale référence pour les étudiants et les professionnels.
La deuxième édition a été soigneusement mise à jour et révisée pour refléter les développements récents dans le domaine et pour clarifier davantage la présentation des principes de base. En plus d'une couverture approfondie des principes fondamentaux de la physique et de la chimie des plasmas, les auteurs appliquent la théorie de base aux décharges de plasma, y compris les calculs des paramètres du plasma et la mise à l'échelle des paramètres du plasma avec les paramètres de contrôle.
Les sujets nouveaux et élargis comprennent :
* Les sections transversales mises à jour.
* Diffusion et solutions de diffusion.
* Critères de Bohm généralisés.
* Traitement élargi des gaines de courant continu.
* Sondes de Langmuir dans des champs variables dans le temps.
* Décharges électronégatives.
* Décharges à puissance pulsée.
* Décharges à double fréquence.
* Gaines RF à haute densité et distributions d'énergie ionique.
* Hystérésis et instabilités.
* Décharges héliconiques.
* Décharges à cathode creuse.
* Dépôt physique en phase vapeur par ionisation.
* Chargement différentiel du substrat.
Avec de nouveaux chapitres sur les plasmas poussiéreux et la théorie cinétique des décharges, les étudiants de troisième cycle et les chercheurs dans le domaine du traitement des plasmas devraient trouver cette nouvelle édition plus utile que jamais.
Autres informations sur le livre :
| ISBN : | 9780471720010 |
| Auteur : | |
| Éditeur : | |
| Langue : | anglais |
| Reliure : | Relié |
| Année de publication : | 2005 |
| Nombre de pages : | 800 |
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