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Titre original :
Handbook of Chemical Vapor Deposition: Principles, Technology and Applications
Contenu du livre :
Handbook of Chemical Vapor Deposition : Principles, Technology and Applications fournit des informations sur les aspects fondamentaux du dépôt chimique en phase vapeur. Ce livre traite des applications du dépôt chimique en phase vapeur, une technologie relativement flexible qui peut s'adapter à de nombreuses variations.
Organisé en 12 chapitres, ce livre commence par un aperçu de l'examen théorique du processus de dépôt chimique en phase vapeur. Ce texte décrit ensuite les principales réactions chimiques et passe en revue les systèmes et équipements de dépôt chimique en phase vapeur utilisés dans la recherche et la production. D'autres chapitres examinent les matériaux déposés par dépôt chimique en phase vapeur.
Ce livre aborde également les applications potentielles du dépôt chimique en phase vapeur dans le domaine des semi-conducteurs et de l'électronique. Le dernier chapitre traite de l'implantation ionique en tant que processus majeur dans la fabrication des semi-conducteurs.
Ce livre est une ressource précieuse pour les scientifiques, les ingénieurs et les étudiants. Les responsables de la production et du marketing ainsi que les fournisseurs d'équipements, de matériaux et de services le trouveront également utile.
Autres informations sur le livre :
| ISBN : | 9780815513001 |
| Auteur : | |
| Éditeur : | |
| Langue : | anglais |
| Reliure : | Relié |
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