Titre original :
Defect-Induced Magnetism in Oxide Semiconductors
Contenu du livre :
Defect Induced Magnetism in Oxide Semiconductors offre une vue d'ensemble des dernières avancées en matière d'ingénierie des défauts pour créer de nouveaux matériaux magnétiques et permettre de nouvelles applications technologiques.
Le livre présente d'abord les mécanismes, le comportement et la théorie du magnétisme dans les semi-conducteurs à base d'oxyde et passe en revue les méthodes d'induction du magnétisme dans ces matériaux. Ensuite, des stratégies telles que le dépôt par laser pulsé et la pulvérisation RF pour produire des matériaux nanostructurés à base d'oxyde avec un magnétisme induit sont discutées. Vient ensuite un examen des méthodes post-dépôt les plus pertinentes pour induire le magnétisme dans les semi-conducteurs d'oxyde, notamment le recuit, l'irradiation ionique et l'implantation ionique. Des exemples de magnétisme induit par des défauts dans des semi-conducteurs à base d'oxyde sont fournis, ainsi que des applications sélectionnées.
Defect Induced Magnetism in Oxide Semiconductors est une référence appropriée pour les chercheurs universitaires et les praticiens de la recherche et du développement dans l'industrie travaillant dans les disciplines de la science et de l'ingénierie des matériaux.
Autres informations sur le livre :
| ISBN : | 9780323909075 |
| Auteur : | |
| Éditeur : | |
| Langue : | anglais |
| Reliure : | Broché |
| Année de publication : | 2023 |
| Nombre de pages : | 736 |
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