Dépôt chimique en phase vapeur de tungstène et de siliciures de tungstène pour les applications Vlsi/ULSI

Titre original :

Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for Vlsi/ ULSI Applications

Contenu du livre :

Cette monographie condense la littérature pertinente sur le dépôt en phase vapeur du tungstène (W) en un seul volume facile à lire.

Le livre fournit au lecteur le contexte nécessaire pour mettre en place, affiner et maintenir avec succès un processus CVD-W dans une installation de production. La chimie de dépôt des matériaux, l'équipement, la technologie des procédés, les développements et les applications sont décrits.

Autres informations sur le livre :

• ISBN : 9780815512882
• Auteur : Schmitz John E. J.
• Éditeur : William Andrew Inc
• Langue : anglais
• Reliure : Relié