Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for Vlsi/ ULSI Applications
Cette monographie condense la littérature pertinente sur le dépôt en phase vapeur du tungstène (W) en un seul volume facile à lire.
Le livre fournit au lecteur le contexte nécessaire pour mettre en place, affiner et maintenir avec succès un processus CVD-W dans une installation de production. La chimie de dépôt des matériaux, l'équipement, la technologie des procédés, les développements et les applications sont décrits.
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Dernière modification: 2024.11.14 07:32 (GMT)